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匀胶机主要特点
发布时间:2021-03-19        浏览次数:0        返回列表
 匀胶机是在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。
匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点,并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A型和KW-5型。 
匀胶机主要特点 
1、开关电流调速,稳定性能更好,转速调节以数字显示为准。 
2、转速在500~8000转/分范围内非常稳定。   
3、采用双转速。在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动转换到高速运转。两种转速及相应的时间分别可调,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟。 
4、具有定时功能。  
5、测速采用光电的办法,产生光电脉冲,由晶体分频测速准确性高。  
6、"吸片"采用电磁阀控制气路,一个气泵可同时带几台匀胶机工作,适合流水线的工艺,提高了效率。   
7、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音低。 
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